電感耦合等離子體質譜儀
根據您的需求量身定制版ICP-MS

• 超高靈敏度： 靈敏度【cps/ppm】低質量數：7Li ≥100 M，中質量數：115In ≥500 M，高質量數：238U ≥500 M; 氧化物產率（CeO+/Ce+）：≤1.8 %

• 低運行成本：氬氣消耗降低50%

• 高效：樣品分析速率提升 50%

• 穩(wěn)定：輕松應對各種復雜基體，確保優(yōu)異的長期穩(wěn)定性

• 靈活：根據不同應用多樣化配置儀器
  

高靈敏度和最快的分析速度

PlasmaQuant MS 的靈敏度可顯著提高樣品分析效率降低單樣品分析成本。設計的ICP-MS分析確保在極短的積分時間或大比例稀釋的前提下，依然可以獲得低的檢出限和恒定的分析速率。這就保證了最大的樣品通量、分析結果的長期穩(wěn)定性及重復性，并顯著減少日常維護頻率。

• 最佳檢出限

• 高樣品通量

• 顯著降低樣品前處理工作量

• 出色的長期穩(wěn)定性

• 低維護

的分析性能和低使用成本

PlasmaQuant MS的高靈敏度實現了業(yè)內低檢測限。質譜分辨率和低豐度同位素最佳檢測靈敏度使PlasmaQuant MS在超低痕量分析、超低濃度形態(tài)分析、直徑小于10nm的單納米顆粒物分析和高精密度同位素比值分析等應用領域獲得最佳的分析結果。PlasmaQuant MS的靈敏度使其能夠在確保精密度和重復性的前提下顯著縮短分析時間。的質譜干擾消除系統(tǒng)iCRC可高效、簡潔、快速地消除ICP-MS分析中的質譜干擾，不同氣體模式之間的快速切換及的BOOST技術，即便應對要求苛刻的樣品依然可以輕松獲得出色的長期穩(wěn)定性和業(yè)內的分析速度。

PlasmaQuant MS降低氬氣消耗50%。的等離子體聚焦技術在確保極低氧化物產率（<2% CeO+ /Ce+ ）的前提下，增強等離子體基體耐受性的同時，等離子氣消耗量小于9L/min。檢測器在脈沖計數模式下可高達11個數量級（0.1-1010 cps）的動態(tài)線性范圍，在樣品分析時實現了從超低痕量到高濃度的快速準確的多元素分析，并極大的延長檢測器的使用壽命。